南茂砸8.8億元 取得羣創南科部分廠房設施

面板驅動晶片和記憶體封測廠南茂今天下午公告，董事會決議取得羣創光電位於臺南市新市區環東路部分南科廠房及附屬設施，投資金額新臺幣8.8億元，建物面積約1萬380.64坪，南茂表示，取得目的爲營運與生產使用。

南茂說明，此次取得羣創南科部分廠房設施，主要目的爲中長期業務發展，佈局包括邏輯及混合訊號晶片及記憶體等封裝測試產能。

產業人士指出，南茂此次取得羣創位於南科的部分廠房設施，並非先前市場關注位於環西路的羣創五廠，而是羣創原先租給正達光電使用的廠區。南茂南科廠區原先佈局半導體封裝產能，因應客戶需要，這次投資除了擴大封裝產線，也擴充測試產能。

羣創公告指出，此次處分目的爲挹注營運及未來發展動能，充實營運資金，預計處分利益約6.59億元。

羣創今天也公告，爲優化資產配置、活化資金運用，積極挹注營運及未來發展動能，董事會決議授權董事長洪進揚擬處分臺南FAB 2及FAB 5相關不動產。