臺積電暫不買ASML最先進機臺

臺積電（2330）雖然大舉投入資本支出，以支持客戶成長，不過，臺積電美西時間22日於年度北美技術論壇表示，爲節省開支，2029年底前不會在晶片生產中部署艾司摩爾（ASML）最先進的微影設備。

業界認爲，臺積電短期內不會添購艾司摩爾最先進的微影設備，不僅能有效撙節開支，也透露臺積電在技術研發有獨到之處，相較於其他競爭對手可能需要採購最先進微影設備才能生產更先進的製程，臺積電靠公司內部的能量，能以較少的投資進入更先進的製程生產，更能精簡成本，更凸顯臺積電技術一流。

不過，這對艾司摩爾就不見得是好事，畢竟大客戶表態短期內不買高價的先進產品。相關消息導致艾司摩爾美股週二盤中一度跳水重挫5.5％，終場下跌1.1％。

臺積電副共同營運長張曉強指出，目前並無計劃採用艾司摩爾最新型的「高數值孔徑極紫外光微影設備」（High-NA EUV），這款設備單部售價高達3.5億歐元（約4.1億美元）以上。

他說：「我們仍能持續從現有的EUV設備中獲益。」他也提到，新一代的High-NA EUV 設備「非常、非常昂貴」。

外電報導，艾司摩爾的High-NA EUV設備是對光學系統的進階改良，能協助晶片製造商進一步縮減電晶體體積，並生產更先進的AI晶片。臺積電雖然已採購極少量的新款設備，但僅用於研發而非量產。張曉強表示，臺積電正尋求在不使用High-NA EUV設備的情況下，持續提升晶片效能的方法。

由於臺積電是艾司摩爾最大客戶，外界認爲，其上述決定對艾司摩爾而言，絕非是好兆頭。投資人正密切關注艾司摩爾High-NA EUV設備獲採用的情形。

艾司摩爾原本預期新設備將於2027年及2028年大量生產，並將2030年的營收目標定在600億歐元。